GENESIS0-500分析型扫描电镜

GENESIS0-500分析型扫描电镜

添加时间:2016-11-28 09:26:00

【技术特点】

高分辨快速成像能力

 高真空模式,长期免清洗维护

样品室满足真空室外可移动探测器应用需要,如EDS,WDS  EBSD,CL,等  

优中心样品台,倾斜/复位,微观视野焦点不变,有助于对表面进行灵活成像、分析。行程满足EBSD分析要求。  

占地空间,无需固定的独立地线,容易移动,  

操作维护简便  

可升级六化镧电子枪, 无需长期保持真空运转,高速真空系统,随时开关机。


【主要特点】


 ● 专门的经济型、拓展强大的小型立式扫描电镜

 ●高分辨成像能力,满足纳米尺度快速形貌表征

 ● 体型小巧,节约空间,可随时移动。

 ● 可接配所有规格及高性能EDS,具有大型扫描电镜的分析效果

 ● 优中心样品台、可轻易实现立体对图像采集,重构3D形貌像。



【适用范围】:

     扫描电镜广泛应用于冶金、机械、陶瓷、化工、半导体、电子器件、纺织、生物学等行业领域,适用于科学研究,工业产品失效分析,产品可靠性控制。先进的电子光学性能,满足客户从几倍到几十万倍的快速观察分析,不但具有强大的图像处理分析功能,还能广泛连接各种标准或者非标准探测器,拓展成为可靠的分析型电镜,实现用户对材料的全方位微观分析。Genesis-500分析型扫描电镜,适合多种分析附件原位分析。


安装示意】


【性能指标】

型号

Genesis-500分析型扫描电镜

样品台

五轴优中心,全手动

X: 40mm

Y: 40mm

Z: 5-45mm

R: 360°无限

T: -20°~90°

电子枪

预对中钨灯丝 三极自动偏压

加速电压

200V-30KV (最大发射电流190μA @ 30KV/最大电子枪

功率:5.7W)

探测器

ET-SED

物镜光阑

20μm  20μm  50μm 100μm  四位可变光阑

分辨率

4nm @30KV ( SEI)

放大倍数

10-300,000 X

样品室

内径φ150mm,Se、Bse、EDS、WDS、EBSD、CL等探测器

接口

最大样品尺寸

Φ96mm X 50mm

工作距离

0-45mm

扫描光栅运动

电位移 ±50μm, 电旋转 0-360°

扫描模式

聚焦模式:320X240 像素 ,尺寸可变

TV模式:800x 600像素 

慢扫描模式,用于TV及聚焦模式。

照相模式:800X600、960X720、1024x768、1600x1200、

最大3200x2400像素

图像格式

JPG、TIFF、bmp、PNG

真空模式

高真空优于9x10-3Pa

真空系统

全自动真空系统,真空高压连锁安全保护(高真空时间

小于3分钟)

-涡轮分子泵      
-旋片式机械真空泵    
-电动阀门系统:真空闸板阀、电磁阀等    

自动功能

亮度/对比度, 聚焦,   电子枪对中、偏压、饱和,

物镜光阑摇摆对中

软件系统

基于Win8,Virtuoso1.1专用控制软件. 内嵌长度角度

面积测量、图像编辑处理工具。100%鼠标键盘操作。

主机尺寸/重量

600(W)x623(D)x 1350(H)mm /120kg

电源

单相交流 220V 、50Hz、1KW

耗材附件

预对中灯丝,样品托,碳导电胶带,导电银胶,专用工具

可选配置

四象限BSED | 样品室摄像机 | 升级LaB6/CeB6阴极 

3D重构成像软件 | 拉曼光谱 | EDS能谱仪| WDS波谱仪 | EBSD 电子背散射衍射 | CL 阴极荧光 |

电子束曝光装置



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